BS ISO 17560-2002 表面化学分析.再生离子质量光谱测定.硅中硼的深仿形分析法

作者:标准资料网时间:2024-05-09 09:14:40 浏览:9032 来源:标准资料网

【英文标准名称】:Surfacechemicalanalysis-Secondary-ionmassspectrometry-Methodfordepthprofilingofboroninsilicon
【原文标准名称】:表面化学分析.再生离子质量光谱测定.硅中硼的深仿形分析法
【标准号】:BSISO17560-2002
【标准状态】:现行
【国别】:英国
【发布日期】:2002-08-28
【实施或试行日期】:2002-08-28
【发布单位】:英国标准学会(GB-BSI)
【起草单位】:BSI
【标准类型】:()
【标准水平】:()
【中文主题词】:精整;含量测定;化学分析和试验;光谱测定法;掺杂剂;硅;硼;晶体
【英文主题词】:Boron;Chemicalanalysisandtesting;Crystals;Determinationofcontent;Dopingagents;Finishes;Silicon;Spectrometry
【摘要】:ThisInternationalStandardspecifiesasecondary-ionmassspectrometricmethodusingmagnetic-sectororquadrupolemassspectrometersfordepthprofilingofboroninsilicon,andusingstylusprofilometryoropticalinterferometryfordepthscalecalibration.Thismethodisapplicabletosingle-crystal,poly-crystaloramorphous-siliconspecimenswithboronatomicconcentrationsbetween1×10atoms/cmand1×10atoms/cm,andtocraterdepthsof50nmordeeper.
【中国标准分类号】:G04
【国际标准分类号】:71_040_40
【页数】:20P.;A4
【正文语种】:英语

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